透射電子顯微鏡(Transmission electron microscope,縮寫TEM),簡稱透射電鏡,是把經增速和會萃的電子束投射到十分薄的樣品上,電子與樣品中的原子碰撞而改動朝向,從而產生平面角散射。散射角的輕重與樣品的密度、厚度干系,因此可以構成明暗不同的影像。通常,透射電子顯微鏡的區分率為0.1~0.2nm,擴大倍數為幾萬~百萬倍,用于察看超微布局,即小于0.2微米、光學顯微鏡下無法看清的布局,又稱“亞顯微布局”。
在實踐利用TEM之前,要求所測試樣必需滿意一定的條件,針對不同典范的試樣有不同的制取辦法。
樣品要求
1.粉末樣品基本要求
(1)單顆粉末尺寸最好小于1μm;
(2)無磁性;
(3)以無機因素為主,不然會形成電鏡嚴峻的沾染,高壓跳掉,乃至擊壞高壓槍;
2.塊狀樣品基本要求
(1)必要電解減薄或離子減薄,取得幾十納米的薄區才干察看;
(2)如晶粒尺寸小于1μm,也可用決裂等機器辦法制成粉末來察看;
(3)無磁性;
(4)塊狀樣品制備繁復、耗時長、工序多、必要由履歷的教師引導或制備;樣品的制備優劣直接影響到后方電鏡的察看和分析。以是塊狀樣品制備之前,最好與TEM的教師舉行相反和討教,或交由教師制備。
送樣品前的準備事情
1.目標要明白:
(1)做什么內容(如確定納米棒的生長朝向,特定察看分析某個晶面的缺陷,相布局分析,主相與第二相的取向干系,界面晶格婚配等等);
(2)渴望能處理什么成績;
2.樣品經過X-Ray粉末衍射(XRD)測試、并確定布局后,再決定對否做HRTEM;如此即可節流時間,又能在XRD的基本上取得更多的微觀布局信息。
3.做HRTEM前,請帶上XRD數據及其他實行后果,與HRTEM教師舉行必要的相反,以推斷可否到達目標;同時HRTEM教師還會依據您的其他實行數據,向您提供好的發起,如此不僅能滿意您的要求,乃至使測試內容做得更深,提高論文的層次。
粉末樣品的制備
1.選擇高質量的微柵網(直徑3mm),這是干系到可否拍攝出高質量高區分電鏡照片的第一步;(注:高質量的微柵網現在本實行室還不克不及制備,是外購的,價格20元/只;平凡碳膜銅網無償提供使用。)
2.用鑷子警惕取出微柵網,將膜面朝上(在燈光下察看體現有光暈的面,即膜面),悄悄平放在白色濾紙上;
3.取過量的粉末和乙醇分散到場小燒杯,舉行超聲振蕩10~30min,過3~5 min后,用玻璃毛細管吸取粉末和乙醇的勻稱殽雜液,然后滴2~3滴該殽雜液體到微柵網上(如粉末是玄色,則當微柵網周圍的白色濾紙外表變得微黑,此時便適中。滴得太多,則粉末疏散不開,攔阻于察看,同時粉末掉入電鏡的幾率大增,嚴峻影響電鏡的使用壽命;滴得太少,則對電鏡察看攔阻,難以找到實行所要求粉末顆粒。發起由教師制備或在教師引導下制備。)
4.等15 min以上,以便乙醇盡力揮發終了;不然將樣品裝上樣品臺插進電鏡,將影響電鏡的真空。
塊狀樣品制備
1.電解減薄辦法 用于金屬和合金試樣的制備。
(1)塊狀樣切成約0.3mm厚的勻稱薄片;
(2)用金剛砂紙機器研磨到約120~150μm厚;
(3)拋光研磨到約100μm厚;
(4)沖成Ф3mm 的圓片;
(5)選擇切合的電解液和雙噴電解儀的事情條件,將Ф3mm 的圓片中央減薄出小孔;(6)敏捷取出減薄試樣放入無水乙醇中漂洗干凈。
注意事項:
(1)電解減薄所用的電解液有很強的腐化性,必要注意職員寧靜,及對裝備的洗濯;
(2)電解減薄完的試樣必要輕取、輕拿、輕放和輕裝,不然容易決裂,招致中途而廢;
2. 離子減薄辦法 用于陶瓷、半導體、以及多層膜截面等質料試樣的制備。
塊狀樣制備
(1)塊狀樣切成約0.3mm厚的勻稱薄片;(2)勻稱薄片用白臘粘貼于超聲波切割機樣品座上的載玻片上;
(3)用超聲波切割機沖成Ф3mm 的圓片;(4)用金剛砂紙機器研磨到約100μm厚;(5)用磨坑儀在圓片中央部位磨成一個凹坑,凹坑深度約50~70μm,凹坑目標主要是為了變小后序離子減薄歷程時間,以提高終極減薄聽從;
(6)將干凈的、已凹坑的Ф3mm 圓片警惕放入離子減薄儀中,依據試樣質料的特性,選擇切合的離子減薄參數舉行減薄;通常,尋常陶瓷樣品離子減薄時間需2~3天;整個歷程約5天。
注意事項:
(1)凹坑歷程試樣必要準確的對中,先粗磨后細磨拋光,磨輪負載要適中,不然試樣易決裂;
(2)凹坑終了后,對凹坑儀的磨輪和轉軸要洗濯干凈;
(3)凹坑終了的試樣需放在丙酮中浸泡、洗濯和涼干;
(4)舉行離子減薄的試樣在裝上樣品臺和從樣品臺取下這二歷程,必要十分的警惕和過細的舉措,由于此時Ф3mm薄片試樣的中央已十分薄,用力不均或過大,很容易招致試樣決裂。
(5)必要很好的耐心,欲速則不達。
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